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離子研磨設備是一種用于材料科學領域的儀器，可用于SEM、EPMA和SAM的樣品制備，它可以制備軟的、硬的和復合材料的樣品，損傷、污染和變形可以控制得非常小。依靠離子束轟擊制備樣品剖面，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料。離子研磨設備可一步制備出鏡面樣品。它幾乎可以適用于各種材料，包括難以拋光的軟材料，如銅、鋁、金、焊料和聚合物等；以及難以切割的材料，如陶瓷和玻璃等。配套的高級CCD顯微鏡，可以準確地把樣品定位在幾個微米大小的剖面位置上。制備過程中，自動控制樣品搖擺，以避免...

真空鍍膜儀通過連續監控在線生產來保證鍍膜產品的優良性，提高車間生產線上的工作效率。鍍膜儀的種類多樣主要分為：蒸發真空鍍膜設備系列、離子真空鍍膜儀系列、磁控濺射真空鍍膜設備。由于真空鍍膜儀的應用非常的廣泛，目前已經滲透到車輛、土木建筑工程、機械、包裝、環境保護、醫藥及醫療器械、石油、化工、食品、光學、電氣、電子、原子能、半導體、航空航天、低溫、專用機械、紡織、造紙、農業以及民用工業等工業部門和科學研究工作中。真空鍍膜儀的應用是很復雜的，用戶需求掌握必定的操作常識，我們來一起學習...

鍍膜儀是一款多功能型高真空鍍膜系統，用于制備超薄，細顆粒的導電金屬膜和碳膜，以適用于超高分辨率分析所需的鍍膜要求。這一款全自動臺式鍍膜儀包含內置式無油真空系統石英膜厚監控系統和馬達驅動樣品臺。真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結合脈沖技術及磁控濺射技術，使沉積粒子細化，膜層的各項性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進行鍍膜，可以鍍金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，并...

徠卡高真空鍍膜儀是磁控濺射、多弧離子、蒸發鍍膜的混合性設備，是在多弧離子鍍膜機的基礎上裝備圓柱靶或平面磁控靶，設備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色，一起也具有磁控濺射低溫、安穩的長處，適合鍍各種復合膜。徠卡高真空鍍膜儀主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。在防止油污染和縮短工作周期等方面具有有效的性能。徠卡高真空鍍膜儀的主要結構講解：1.蒸騰與磁控濺射的混合設備：多功能，合適量產，適...

徠卡超薄切片機采用設計理念和制造技術，參考專業標準制造，具有可靠的安全性；同時有可靠的精度保證。可延長保護，滑動離合器和抗鎖機制保護儀器和人員安全；刀具可動，角度可調；刀具防護裝置能夠減少人員的傷害；集成于運行平穩的手輪；切片機附件能夠使得樣本更換更為容易。徠卡超薄切片機配備一種適合各種刀架的底座，它配備一種一次性的刀架基本單元和快速釋放夾具系統，切片機夾具系統能夠安裝不同的刀片。其重力切片設計，無振動；自動馬達驅動刀臺；冷凍切片工作溫度范圍：-15℃～-185℃。超薄切片機...

徠卡超薄切片機秉承徠卡一貫的高精度。堅固耐用的品質，再加上多項創新的設計，功能，使用戶能夠輕易舒適地完成常溫/冷凍的超薄切片工作。*的共心式移動觀察系統，方便觀察切片，甚至是低水面切片，比如樹脂切片或者干切片等。使用背光燈，方便在對刀時精確控制刀臺朝向樣品的移動，此時須調節觀察角度，以便適應不同類型的切片刀。徠卡顯微系統設計的共心式移動，無論使用玻璃刀還是鉆石刀，都能夠提供精確的對刀控制。徠卡超薄切片機可以進行半薄和超薄切片，為光學顯微鏡，透射電子顯微鏡，掃描電子顯微鏡和原子...